等离子处理设备

等离子处理设备

Plasma equipament

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VPTS系列真空式等离子处理设备
真空等离子体处理设备适用于产品表面净化、活化、粗化、刻蚀及接枝,可以用于处理各种材料,包括高分子材料,金属或半导体等。

产品优势

人机交互系统
适用于结构复杂的 3D 工件
不改变机体固有特性,改性仅发生在表面
全程干法处理,无污染
低温处理,适用于热敏感材料
高稳定性,使用寿命长
低能耗,低保养费用

产品参数

供给需求

电源:380V/50Hz,三相,15A
工艺气体:输入压力 0.2MPA
压缩空气:输入压力 0.6MPA

可选配置

• RF发生器
• 耐腐蚀性气体的 MFC
• 循环水冷机
• 真空泵
• 真空反应腔尺寸(可定制)


产品型号/技术配置 VPTS-80 VPTS-110
外形尺寸 1050x1020x1750mm 1050x1020x1750mm
反应腔尺寸 450x400x450 mm 530x520x400 mm
托架有效尺寸 400x320mm,6层 480×330mm,8层
真空腔体材料 镁铝合金
真空泵 双极油泵
质量流量控制器 0-500 Sccm(可选)
真空计 ULVAC
射频电源 13.56 MHZ(功率可选)
水冷系统 水冷电极板+水冷机(选配)
PLC 系统 西门子
电器系统 施耐德
触摸屏 10.7 寸
处理气体 O2 、Ar 、N2 、 CDA

行业应用

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